1パターン形成の基礎

1-1 レジスト材料とプロセス

・プロセスフロー

・CAD設計

・シフト量

・ラインマッチング

・レジストの光化学反応

・ポジ、ネガ

・化学増幅型

・EUV

・TMAH溶解

・ポジ型/ネガ型の選択基準

1-2 パターン露光描画

・露光システム

・レイリーの式

・重ね合わせ技術

1-3 レジスト処理装置

・HMDS処理

・コーティング

・現像

・乾燥

・レジスト除去

2レジスト寸法と形状最適化

2-1 コントラスト制御

・光学像コントラスト

・残膜曲線

・溶解コントラスト

・現像コントラスト

2-2 寸法と形状コントロール

・露光量／フォーカス依存性

・process window

・寸法リニアリティー

・バルク効果

・膜内多重反射

・段差部変動

・エッチング選択比

2-3 改善プロセス技術

・反射防止膜

・PEB

・マルチパターニング技術

・位相シフト技術

3レジスト欠陥・トラブル対策

3-1 致命欠陥

・欠陥と歩留まり

・配線上異物

・致命／非致命欠陥

・ショート/オープン欠陥

・バブル欠陥

・塗布エッジ盛上り

・EBRエッジバックリンス

・接触異物

3-2 レジスト剥離

・要因

・付着エネルギー

・乾燥剥離

・応力歪み、膨潤

・検査用パターン

・DPAT法

3-3 レジスト欠陥と対策

・ストリーエーション

・膜分裂

・乾燥むら

・ソルベントクラック

・ピンホール、はじき

・膨れ

・パターン変形

・現像バブル対策

4質疑応答

（日頃の研究開発、トラブル相談にも応じます）

参考資料

・塗膜トラブルQ&A事例集（トラブルの最短解決ノウハウ）

・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析法（測定方法）