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[書籍] <テクニカルトレンドレポート> シリーズ7最新ディスプレイ技術トレンド 2020






最新ディスプレイ技術トレンド 2020 | イーコンプライアンス


最新ディスプレイ技術トレンド 2020

<テクニカルトレンドレポート> シリーズ7

2019~2020年の先端技術をレビュー!進展するOLED向け機能材料,生産プロセス・装置,評価技術
高解像度化を極める液晶ディスプレイ技術、高生産性なプリンテッドエレクトロニクス技術など

形式: ebook版(PDF) | ページ数: B5判 245頁 フルカラー | 価格: 33,000円(税込)

<最新技術トレンドを全ページフルカラーでお届けします>

※製本版は完売となりました。ebook版のみの販売となります

〇ご利用アカウント数 : 5アカウント
〇ご利用可能端末数 : 2台/1アカウント
※購入者以外に4アカウントまで追加可能です(無料)

鵜飼 育弘 氏

Ukai Display Device Institute 代表

【経歴】

1968年 大阪大学 卒業、同年ホシデン(株) 入社

1979年から主にトップゲート型a-Si TFT-LCDのR&Dおよび事業化に従事。

1989年 Apple Macintosh potableに世界で初めて10型モノクロ反射型a-Si TFT-LCDが採用された。

世界で初めて民間航空機(ボーイング社777)コックピット用ディスプレイとしてTFT-LCDが採用された。

直接変換型X線ディテクタ(FPD:Flat Panel Detectorを開発実用化。

1999年 東京工業大学から工学博士号授与される。同年3月退職(退職時、開発技術研究所参与)。

1999年 ソニー(株)入社 STLCD技術部長としてLTPS TFT-LCDの量産立ち上げに従事。

世界で初めてガラス基板上にLTPS TFTによるシステム・オン・パネルの量産。

2002年からモバイルディスプレイ事業本部担当部長及びコーポレートR&Dディスプレイデバイス開発本部Chief Distinguish Engineerとして、技術戦略・技術企画担当。 In-Cell化技術を学業界に提唱し事業化を推進した。

2008年3月 ソニー(株) 退職

2008年4月から現職

【その他】

九州大学大学院、大阪市立大学大学院非常勤講師歴任

矢野経済研究所 客員研究員

応用物理学会シニア会員 Society for Information Display Senior Member

「薄膜トランジスタ技術のすべて」「実践ディスプレイ工学」など著書多数

目次

はじめに

Chapter1 FPD(Flat Panel Display)技術動向

  • はじめに
  • 1. Society 5.0と第5世代移動通信システム(5G)
  • 2. 30V型4KフレキシブルOLEDディスプレイ開発
  • 3. 高精細VR用TFT-LCD
  • 4. Human Machine Interface
  • 5. グリーンプロセス
  • おわりに

Chapter2 究極のディスプレイを目指すTFT-LCD

  • 1. IGZO-TFT
  • 2. 大型8Kディスプレイ用光配向技術による新規液晶ディスプレイモード”UV2 AⅡ”
  • 3. BT.2020仕様を満たす17型レーザーバックライト8K液晶ディスプレイ
  • 4. 集積化インセル電磁共鳴センサーと静電容量式タッチセンサー
  • 5. タッチセンサーと触覚センサーを集積化した8.4型TFT-LCD
  • 6. ギラツキとその評価

Chapter3 日進月歩のAMOLED

  • 1. OLEDの動向と材料開発
  • 2. i3 -opera(アイ・キューブオペラ)事業紹介
  • 3. 山形大学有機エレクトロニクスイノベ―ションセンター(INOEL)
  • 4. インピーダンス分光法による有機半導体,有機デバイスの電子物性評価
  • 5. フラスク社
  • 6. ブイ・テクノロジー社

Chapter4 レーザーディスプレイと周辺技術

  • 1. レーザーディスプレイ・照明の課題と展望
  • 2. オキサイド社のレーザー用蛍光体と関連装置
  • 3. カラースペックル測定装置

Chapter5 プリンテッドデバイス と周辺技術

  • 1. グリーンプロセスとは
  • 2. プリンテッドデバイス技術
  • 3. 高解像度R2Rプロセス技術と応用
  • 4. 東レ社のナノテクノロジー
  • 5.プリンテッドデバイス用エポキシフィルム

Chapter6 酸化物半導体のLSIへの応用

  • 1. はじめに
  • 2. 酸化物半導体の特徴
  • 3. 酸化物半導体LSI
  • 4. DOSRAM極低消費電力メモリ
  • 5. NoffCPU® (Normally- Off Central Processing Unit)
  • 6. NOSRAM® (Nonvolatile Oxide Semiconductor Random Access Memory)
  • 7. おわりに

おわりに

本書で触れる注目内容の一部をご紹介!

<フォームファクタを強みにシェアを高めるOLEDの機能材料・生産技術の開発動向>

  • カラーフィルターレス(RGB発光方式)高精細4KフレキシブルOLEDディスプレイの開発例
  • フレキシブル・フォルダブル向けフィルムの技術動向
  • 従来のリン光発光材料の性能に迫るTADF材料の最新動向
  • ホール輸送材料、電子輸送材料、ホスト材料開発と高EQE、長寿命OLED素子への展開
  • OLED素子の寿命に影響する因子と、その改善生産プロセス
  • PET基材にも対応する低温でのOLED作製プロセス
  • ロールtoロール・PE-CVD成膜によるバリア膜・透明導電膜形成プロセス技術

<高解像度を追求する液晶ディスプレイ技術の最前線>

  • 進化を続けるIGZO TFTの実力と今後の展望
  • 高透過率・広色域・高輝度の要求に対応する最新技術
  • 液晶分子の配向を正確に制御する光配向技術
  • 今後の量産に期待がかかる、広色域・応答速度を向上するレーザーバックライト技術

<スーパーハイビジョンの色再現範囲を実現できるレーザーディスプレイ>

  • 広い色再現範囲、高輝度、高指向性などレーザーディスプレイ開発のモチベーションとは
  • 3原色レーザー光源モジュールの開発と機器搭載、特性評価の最前線
  • 高温下でも蛍光強度劣化が少ない、耐候性に優れたレーザー用蛍光体の開発例

<今回はディスプレイ技術から派生して今後有望なエレクトロニクス技術も解説>

  • 半導体レーザーを用いたLiDARの開発と照明・表示・光給電・光通信の連動システム
  • 凸版反転印刷による有機薄膜トランジスタ電極形成とインク開発
  • 平板型反転オフセット印刷による微細銀電極パターン形成
  • R2R・インクジェット印刷による大面積TFT回路形成
  • フレキシブル・ウエアラブルなバイオセンサ、温度・歪・触覚センサ
  • CNTを用いた塗布型RFIDのフィルム基板への形成
  • HMDやHUDの鮮明な表示に貢献する高機能フィルム

研究テーマ探索、情報収集、今後の開発方針の策定などにぜひお役立てください!

最新のディスプレイ技術トレンドを網羅した本書で、次世代ディスプレイ開発のヒントを見つけましょう。

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