ＥＵＶリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と 課題解決策および今後の展望
ＥＵＶリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と
課題解決策および今後の展望
■リソグラフィー技術■ ■EUVリソグラフィー技術課題に対する取り組み■
■レジスト材料プロセス技術：マスク欠陥技術、ペリクル技術、光源技術■
■次世代EUVリソグラフィー、日本の半導体技術の今後■
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】
3名以上のお申込みでさらにおトク！
★ 2 nm node以降のロジックデバイス向けのEUVL技術へ！
★ 最新技術開発の現状、課題、今後の半導体微細加工技術の展開とは！？
開催日
2025年12月18日（木） 10:30～16:30
2025年12月18日（木） 10:30～16:30
受講形式
Live配信（Zoom）
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配布資料
製本テキスト（開催日の4、5日前に発送予定）
製本テキスト（開催日の4、5日前に発送予定）
■まとめて受講がおトクな “セット申込み”があります！■
- ●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」2セミナーセット
- ●「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」2セミナーセット
- ●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/23次世代リソグラフィ」2セミナーセット
- ●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」3セミナーセット
セミナー概要
EUVL技術の黎明期の基礎技術開発を紹介するとともに、最新技術開発の現状、課題への取り組み、並びに今後の半導体微細加工技術の展開についても詳説します。
極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等基盤技術全般に亘り解説します。
キーワード
講師紹介
渡部 平司 氏
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 教授 / 理学博士
専門分野
極端紫外線リソグラフィー（EUVL）技術、半導体微細加工技術、放射光科学
研究機関
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所（LASTI）にて、EUVリソグラフィー技術の研究開発を推進。ニュースバル放射光施設を活用した先端研究を展開しています。
WebSite：http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp
EUVリソグラフィー技術の黎明期から現在に至るまで、一貫して基礎技術開発と応用研究に従事。日本・米国のEUVLプロジェクトに深く関わり、この分野における豊富な知見と実績を持つ第一人者です。
こんな方におすすめ
- 半導体製造プロセスに携わる技術者・研究者
- EUVリソグラフィー技術の基礎から学びたい方
- 半導体微細加工技術の最新動向を把握したい方
- 半導体装置・材料メーカーの開発担当者
- レジスト、マスク、光学系などの関連材料・部品開発者
- 2nm node以降の先端プロセス技術に関心のある方
- 半導体産業の技術動向と市場を理解したい方
- 次世代リソグラフィー技術の方向性を知りたい方
プログラム
1. はじめに
- 1.1 IoTおよびAIに期待すること
- 1.2 半導体市場
- 1.3 半導体国際ロードマップから読み取れること
- 1.4 半導体微細加工技術の必要性
- 1.5 今後の半導体技術動向と市場との関係
- 1.6 今後の半導体技術に期待すること
2. リソグラフィー技術
- 2.1 リソグラフィー技術の変遷
- 2.2 黎明期のX線縮小露光技術からEUVリソグラフィー技術への展開
- 2.3 EUVリソグラフィーとは
- EUV光源、光学系、レジスト、マスク、露光機の概要
3. 兵庫県立大学でのEUVリソグラフィー技術開発の取り組み
- 3.1 日本、米国のEUVLプロジェクトの変遷
- 3.2 ニュースバル放射光施設の紹介
4. EUVリソグラフィー技術課題に対する取り組み
- 4.1 レジスト材料プロセス技術
- 4.2 マスク欠陥技術
- 4.3 ペリクル技術
- 4.4 光源技術
5. 次世代EUVリソグラフィー
- 5.1 Hyper NA
- 5.2 Beyond EUV（EUVリソグラフィーの短波長化）
6. 日本の半導体技術の過去、現在、今後
日本の半導体技術の覇権に重要な要素
7. まとめ
□質疑応答□
