<AIサーバ用電源ならびに自動車の電動化に向けた>シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向
セミナー概要
AIデータセンター電源の高効率・大容量化と、自動車電動化(xEV)の加速に伴い、パワーデバイスの重要性がますます高まっています。SiC・GaNデバイスが次世代の本命として急速に存在感を高める中、シリコンMOSFET・IGBTをどこまで凌駕できるかが焦点となっています。
本セミナーでは、パワエレ・パワーデバイスの基礎から、シリコン、IGBT、SiC、GaN、酸化ガリウムパワーデバイスの最新技術動向、市場予測、実装技術までを俯瞰的に解説します。
プログラム
- 1. パワーエレクトロニクスとは:パワーデバイスの種類・基本構造・適用分野、AI/xEV向けトピックス
- 2. シリコンパワーMOSFET・IGBTの進展と課題:市場動向、特性改善技術、実装技術
- 3. SiCパワーデバイスの現状と課題:SiC-MOSFETの勝ち筋、コストダウン技術、信頼性向上
- 4. GaNパワーデバイスの現状と課題:GaN-HEMT構造、ノーマリオフ化、高耐圧化動向
- 5. 酸化ガリウムパワーデバイス:Ga₂O₃の特徴と開発状況
- 6. SiC実装技術の進展:銀・銅焼結接合、モジュール技術
- 7. まとめ・質疑応答
講師
岩室 憲幸 氏
筑波大学 数理物質系 教授
早稲田大学理工学部卒、博士(工学)。富士電機にてIGBT・WBGデバイス研究開発に従事、産総研でSiC-MOSFET量産技術開発に携わった後、2013年より筑波大学教授。IEEE Senior Member。パワー半導体設計・解析技術の第一人者。
受講対象
- パワーエレクトロニクスに関わる技術者
- パワーデバイスの開発・設計に携わる方
- AIサーバやxEVの電源開発に興味のある方
- SiC/GaN材料・プロセス技術に関心のある方
- パワー半導体の市場動向を把握したい方
受講料:55,000円(税込)
テレワーク応援キャンペーン(1名申込):44,000円 / 2名同時申込で1名無料
テレワーク応援キャンペーン(1名申込):44,000円 / 2名同時申込で1名無料