【略歴】

ソニー株式会社に35年余り勤務し、中央研究所や半導体事業部門でシリコン基礎研究、デバイス・プロセス開発から量産ライン（九州および米国テキサス州）の歩留まり向上まで広範な業務を担当。

この間、本社経営/研究企画業務、米国スタンフォード大学留学、同集積回路研究所（現Center for Integrated Systems）客員研究員なども経験。ウルトラクリーンテクノロジー研究室長、リサーチフェローを歴任。

2006年、半導体洗浄技術の先駆的研究開発と実用化で、RCA洗浄発明者の名前にちなんだ「Warner Kern賞」受賞。

2007年に技術・経営コンサルタント、国際技術ジャーナリストとして独立し現在に至る。

【主な役職】

• The Electrochemical Society (ECS)フェロー・終身名誉会員
• ECS主催半導体洗浄技術国際会議組織・運営・論文委員
• IMEC主催Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS)国際会議プログラム委員
• IEEE主催半導体製造国際会議（ISSM）運営委員
• 元SEMI 日本地区スタンダード委員会委員

【教育経験】

カリフォルニア大学バークレー校工学部生涯学習講座、大阪大学大学院基礎工学研究科、韓国漢陽大学大学院工学研究科などの非常勤講師や客員教授を歴任。

【最近の活動】

• 国際半導体洗浄技術シンポジウムUCPSS2023（ベルギー）にて基調講演
• セミコンコリアSEMI Technology Symposium（韓国ソウル、2024年2月）にて招待講演
• 2024年6月韓国漢陽大学にて集中講義
• 2025年台湾にて講義、UCPSS2025（ベルギー）チュートリアル講義

【著書】

「メガトレンド半導体2014-2023」（日経BP社）、「表面・界面技術ハンドブック」（NTS社）、「半導体・MEMSのための超臨界流体」（コロナ社）、「シリコンウェーハ表面のクリーン化技術」および同改訂版（リアライズ社、英語版はSpringer社）、「Developments in Surface Contamination and Cleaning Vol.9」（オランダElsevier）、「半導体製造におけるウェット／ドライエッチング技術」（R&D支援センター）、「シリコンと化合物半導体の超精密・微細加工プロセス技術」「半導体製造における洗浄技術」（CMC出版、2024年）、「乾燥工学ハンドブック」（エヌ・ティー・エス、2025年）など（いずれも共著）

【メディア執筆活動】

• マイナビニュースTECH+にて世界半導体産業および技術最新情報執筆中
• セミコンポータル「服部毅のエンジニア論点」連載
• 週刊エコノミストに半導体産業動向記事随時執筆

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