「フォトレジスト」と「次世代リソグラフィ」の 2セミナーセット申込みページ
「フォトレジスト」と
「次世代リソグラフィ」
2セミナーセット
レジスト材料開発から次世代技術まで、2日間で完全マスター
12/22（月）10:30～16:30
高感度化フォトレジスト材料
12/23（火）13:00～17:00
次世代リソグラフィ技術
このセミナーの3つの特長
材料開発の実践知識
フォトレジストの分子設計から評価方法まで、実際の開発に活かせる具体的な知識を習得
次世代技術の全体像
メタルレジスト、自己組織化、ナノインプリントなど、最先端技術を網羅的に学習
第一線の専門家から学ぶ
大学教授と国立研究機関の第一線研究者から、それぞれの専門分野を直接学べる
開催日時
1日目：12/22（月）10:30～16:30
2日目：12/23（火）13:00～17:00
配信方式
ZoomによるLive配信
2日間とも
受講料（税込）
77,000円
E-Mail案内登録価格: 73,150円
配布資料
1日目：製本テキスト
2日目：PDFデータ
特別価格のご案内
2名同時申込
77,000円
2名ともE-Mail案内登録必須
1名あたり38,500円
3名同時申込
115,500円
3名ともE-Mail案内登録必須
※4名以上も1名追加ごとに38,500円
高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術
～EUV用レジスト材料～
2025年12月22日（月）10:30～16:30
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科
教授 博士（工学） 工藤 宏人 氏
セミナー趣旨
フォトレジスト材料は、ポジ型、ネガ型、化学増幅型、非化学増幅型などとして分類され、i線、G線、KrF、ArF、EB、およびEUV露光用レジスト材料として活用されています。高感度化をすること、すなわち、露光量を少なくさせることは、短時間でパターニング処理を可能にし、生産性を上げることを可能にします。しかし、それだけではなく、レジストパターンの解像性を上昇させ、レジストパターンのラフネスの改善にも大きく貢献することになります。
本セミナーにおいて、露光システムに対応したレジスト材料の分子設計指針から、最新のEUV用レジスト材料の開発動向、次世代の分子設計指針まで解説します。
主なプログラム内容
- レジスト材料の原理と化学増幅型レジストの特性
- ポジ型・ネガ型レジスト材料の材料特性と応用用途
- 高分子レジスト材料と低分子レジストの特性比較
- レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
- 最新型レジスト材料（メタルレジスト、EB・EUV用レジスト）
次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望
～EUVメタルレジストなど～
2025年12月23日（火）13:00～17:00
国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構 高崎量子技術基盤研究所
先端機能材料研究部 プロジェクトリーダー（上席研究員） 山本 洋揮 氏
セミナー趣旨
コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現されました。半導体微細加工技術であるEUVリソグラフィは、今後デジタル社会の構築において3次元微細加工技術と並んで極めて重要です。今後も更なる微細加工技術が要求されており、High-NAEUVリソグラフィなどをはじめ、次世代リソグラフィ技術が検討されています。
本セミナーでは、EUVリソグラフィ技術を中心に、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術におけるそれぞれの原理、技術動向、実用化・普及の可能性などについて概説します。
主なプログラム内容
- EBリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
- EUVリソグラフィの基礎と現状課題
- EUVメタルレジスト開発（金属ナノ粒子形成メカニズム、高感度化）
- 次世代EUVリソグラフィ（High-NA、Hyper NA、EUV-FEL、Beyond EUV）
- ブロック共重合体を用いた自己組織化リソグラフィ技術
- ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
2日間セット受講のメリット
材料から技術まで一貫理解
レジスト材料開発の基礎から次世代リソグラフィ技術まで、2日間で体系的に学習
実践的な開発指針
分子設計、評価方法、性能評価など、実際の研究開発に直結する知識を習得
最新技術動向の把握
メタルレジスト、自己組織化など、最先端技術の原理と実用化動向を理解
次世代技術の展望
High-NA、Beyond EUVなど、次世代技術の方向性と課題を把握できます
こんな方におすすめ
レジスト材料の開発・評価に携わる研究者・技術者
フォトレジストの分子設計を学びたい方
次世代リソグラフィ技術の動向を知りたい方
半導体微細加工技術に携わる方
材料メーカーの研究開発担当者
化学・材料系の研究者・学生
お問い合わせ
株式会社イーコンプレス 担当：丁田
〒630-0244 奈良県生駒市東松ヶ丘1-2 奥田第一ビル102
