計算化学からみた エッチングガスの電子物性と解離 ─ 特にイオン及びラジカル生成 ─
イーコンプライアンス
計算化学からみた エッチングガスの電子物性と解離
～特にイオン及びラジカル生成～
エッチングガス反応の本質理解に繋がる、計算化学に基づく最新の解析知見を紹介
エッチング技術の進化には新規プロセスガスの開発が、
エッチングプロセスの制御にはプロセスガスの電子物性への理解が欠かせません。
本セミナーでは、近年発展している計算化学により得られた最新の解析知見をもとに解説いたします。
セミナー概要
セミナーの背景
プロセスガスの物性（イオン化、励起及び電子付着解離）について計算化学を用いて解析し、
生成物及びその化学反応性を理解することが重要です。
そこから得られた知見を基にプロセスに有用な反応種を特定するとともに、
導入するプロセスガス及び混合ガスの選択（レシピ構成）及び新規ガスの開発を検討します。
セミナーの目的
本セミナーでは、計算化学の手法を用いたエッチングガスの解析方法を学び、
プロセスガスの電子物性から導き出される反応機構の理解を深めます。
これにより、より効率的なエッチングプロセスの開発と制御に必要な知識を習得できます。
受講対象者
- 半導体製造のエッチング技術に携わる方
- プロセスガスの開発・選定に関わる技術者
- プラズマプロセスの基礎を学びたい方
- 計算化学による材料・プロセス評価に興味のある方
- 新規エッチングガスの開発を検討している方
得られる知識
- プロセスガスの解離過程（イオン化、励起、電子付着解離）
- 計算化学による未踏領域への知識
- エッチングプロセスガスの選択基準
- 新規エッチングガスの提案方法
講師紹介
林 俊雄 氏
名古屋大学 低温プラズマ研究センター 客員教授
理学博士
【専門】エッチング技術 プロセスプラズマ・ガスの解離過程探索
日本真空技術(株)（現(株)アルバック）で、光励起質量分析計の開発でCF3ラジカルの測定に成功(世界初)、
小型ヘリューム漏洩検知器の開発、MOCVD装置の開発、NLDエッチング装置開発に従事。
このうち1年間は西沢潤一半導体研究所でGaAlAsのALD開発にサポート員として参画。
その後、名古屋大学「プラズマプロセス研究センター」特任教授として赴任、現在は客員教授として勤務。
【受賞歴】
2014年 NO+F2 → F+FNO ガスエッチング特許技術でJST6大成果賞受賞。
2022年 Dry Process Symposium 功労賞受賞。
セミナー講演内容
講演スケジュール
- 10:30～16:30 講演
- ※休憩、質疑応答を含みます
詳細プログラム
1. プラズマ生成の基礎
- 今後の課題…負イオンおよびラジカルの計測とプラズマシミレーション
- 負イオンは無視してよいか?
2. 計算化学の概要
- 計算方法の種類：密度汎関数法とab initio法
- 各種計算方法の優位性
3. 計算化学で明らかになったプロセス
- Siエッチングにおける酸素及び窒素添加効果
- ゲート付近に残留したSiO2のダメージレス化学エッチング
- イオン及びラジカルの生成機構と選択比
- 気相中の電荷交換、表面からの脱離反応、負イオン放出
4. 計算化学で明らかになった一次解離過程と生成物
- メタン系フッ化物
- エタン系フッ化物
- C3F6, C3F8, C4F6, c-C4F8, c-C5F8
5. 計算化学から得られた知見により開発されたエッチング技術
- 窒化膜の高選択比エッチング
- NO + F2 → FNO + F 等の化学反応
6. 計算化学から見た新規エッチングガスの提案
- CxHyFz化合物
- その他の化合物(CF3NO, CF3NH2, SiH4 他)
7. 計算化学から見た今後の研究課題
- 負イオン形成機構と計測技術およびその役割
- 計算化学から得られたデータを基にした断面積の見積もり
※セミナーの進行具合によって講演項目は一部変更・省略することがあります。
受講料
| 区分 | 金額（税込） |
|---|---|
| 通常受講料 | 55,000円 |
| 2名同時申込（E-Mail案内登録必須） | 55,000円（2名分） |
| 1名あたりの単価（2名同時申込） | 27,500円 |
| テレワーク応援キャンペーン（1名申込） | 42,020円 |
| 半導体産業応援キャンペーン（3名以上） | 24,200円/1名 |
割引キャンペーンについて
2名同時申込で1名分無料
- 2名様ともE-Mail案内登録が必須です
- 同一法人内(グループ会社でも可)による申込みのみ適用
- 1名あたり定価半額の27,500円で受講可能
テレワーク応援キャンペーン
- 1名様でオンライン配信セミナーを受講される場合に適用
- E-Mail案内登録で42,020円（本体38,200円+税3,820円）
- お申込みフォームで「テレワーク応援キャンペーン」を選択
半導体産業応援キャンペーン対象セミナー
- 3名以上のお申込みで1名あたり24,200円
- 受講者全員のE-Mail案内登録が必須
- 同一法人内(グループ会社でも可)による複数名申込のみ適用
キャンセル規定
- 開催日の11日前まで：無料にてキャンセルが可能
- 開催日の10日以内：全額申し受けさせていただきます
受講形式
🌐 ライブ配信（Zoomウェビナー）のみ
オンライン配信により、ご自宅やオフィスからご受講いただけます。
配布資料：製本テキスト（開催日の4、5日前に発送予定）
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
開講日に間に合わない可能性があります。
Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
セミナー視聴方法：マイページの「セミナー資料ダウンロード／映像視聴ページ」から
備考：講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
セミナーへのお申し込み
エッチングガスの電子物性と解離機構を計算化学の視点から理解できる、
技術者必見のセミナーです。
新規プロセスガス開発や既存プロセスの改善にお役立ていただけます。
プロセスエンジニア、デバイス開発者、材料開発者の方をはじめ、
半導体製造に関わるすべての技術者にお勧めします。
お問い合わせ
株式会社イーコンプレス
丁田
〒630-0244
奈良県生駒市東松ヶ丘1-2
奥田第一ビル102
