高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術
高感度化フォトレジスト材料の
合成・設計・開発技術
～分子設計・合成方法と最新型EUV用レジスト材料の研究動向～
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】
3名以上のお申込みでさらにおトク！
EUV用レジスト材料など更なる高感度化が求められる新規レジスト材料の開発の為に
メタルレジスト、化学増幅型レジスト、非化学増幅型レジスト材料、、、、
EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の合成・設計・開発
開催日
【ライブ配信】2025年12月22日（月） 10:30～16:30
【ライブ配信】2025年12月22日（月） 10:30～16:30
アーカイブ配信
2026年1月14日（水）まで受付（視聴期間：1/14～1/29）
2026年1月14日（水）まで受付（視聴期間：1/14～1/29）
配布資料
製本資料（開催日または視聴開始日の4、5日前に発送予定）
製本資料（開催日または視聴開始日の4、5日前に発送予定）
■まとめて受講がおトクな “セット申込み”があります！■
- ●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」2セミナーセット
- ●「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」2セミナーセット
- ●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/23次世代リソグラフィ」2セミナーセット
- ●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」3セミナーセット
セミナー概要
高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説します。
露光システムに対応したレジスト材料の分子設計指針から、最新のEUV用レジスト材料の開発動向から、次世代の分子設計指針まで解説します。
セミナーで学べること
- フォトレジスト材料の原理と基礎知識
- ポジ型・ネガ型レジスト材料の特性と応用
- 高分子レジスト材料と低分子レジストの比較
- レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
- 最新型レジスト材料（メタルレジスト、EB・EUV用レジスト）
キーワード
講師紹介
小倉 克之 氏
大阪公立大学大学院 工学研究科 化学工学分野 准教授 博士（工学）
専門分野
高分子化学、レジスト材料、感光性材料、機能性高分子
フォトレジスト材料の研究開発において豊富な知識と経験を持つ専門家です。高感度化レジスト材料の分子設計から最新のEUV用レジスト材料まで、幅広い研究実績を有しています。
こんな方におすすめ
- フォトレジスト材料の開発に携わる研究者・技術者
- 半導体製造プロセスに関わる方
- EUVリソグラフィー用レジスト材料の開発を検討している方
- レジスト材料の高感度化技術を学びたい方
- 化学増幅型・非化学増幅型レジストの違いを理解したい方
- メタルレジストなど新規レジスト材料に関心のある方
- レジスト材料の評価方法を習得したい方
- 次世代レジスト材料の分子設計指針を知りたい方
プログラム
1. フォトレジスト材料の基礎
- 1.1 原理
- 1.2 レジスト材料の例
- 1.3 化学増幅型レジスト
2. ポジ型レジスト材料
- 2.1 材料的な特性
- 2.2 主な応用・用途
3. ネガ型レジスト材料
- 3.1 材料的な特性
- 3.2 主な応用・用途
4. 高分子レジスト材料と低分子レジスト
- 4.1 材料的な特性
- 4.2 主な応用・用途
5. レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
- 5.1 レジスト材料の評価項目、評価手法について
- 5.2 レジスト材料の評価方法と開発例
6. 最新型レジスト材料
- 6.1 メタルレジスト
- 6.2 EB、EUV用レジスト材料
質疑応答
