EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
EUVレジスト材料開発と
評価・プロセス技術
EUVリソグラフィーの基礎とプロセス最適化方法・評価方法
半導体微細加工技術の最先端「EUVリソグラフィー」の
実装・評価・プロセス最適化を徹底解説
セミナーの狙い
情報システム社会の発展に伴い、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、IoT、ビッグデータなどのニーズが急速に増加しています。これらの発展はメモリやCPUなどの半導体電子デバイスの技術革新によって支えられており、その革新は半導体微細加工技術の進展によって実現されています。
現在、EUVリソグラフィー技術により20nmレベルの微細加工が可能となっており、本セミナーではこのEUVリソグラフィー技術の概要とプロセス評価技術について詳しく解説します。EUVレジストの材料特性、評価方法、プロセス最適化、さらには最新の国際学会での発表内容も紹介する予定です。
※特別企画：「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」（2026年2月23日～26日 San Jose開催）での聴講報告も行う予定です。
講師紹介
関口 淳 氏
大阪公立大学 大学院 工学研究科 客員教授
現職
- リソテックジャパン㈱ 専務取締役
- 2019年4月～立命館大学客員教授
- 2020年4月～大阪府立大学客員教授、大阪市立大学客員教授
- 2022年4月～大阪公立大学客員教授
学歴・受賞
- 1983年3月：芝浦工業大学応用化学科卒業
- 2000年：東京電機大学にて工学博士取得
- 2016年：精密工学会技術賞受賞
専門分野
フォトリソグラフィー、バイオミメティクス
著書・学会
- 「感光性フォトレジスト材料の評価」著者
- 「リソグラフィー技術・その40年」著者
- 「ノボラックレジスト・材料とプロセスの最適化」著者
- 応用物理学会会員
- 高分子学会会員
- 多数の論文・講演実績
キャリアハイライト
1983年日本ケミテック入社後、1985年住友GCA社へ入社。レジスト塗布現像装置のプロセス開発に従事し、その後レジスト解析装置および形状シミュレータのシステム開発に携わるなど、フォトリソグラフィー分野で40年以上の実績を有する第一人者です。
こんな方に最適です
EUV研究者
EUVリソグラフィーの基礎から最新技術を学びたい方
EUV技術者
EUVプロセスの最適化と評価方法を習得したい方
半導体企業開発者
次世代リソグラフィー技術を導入検討している方
材料科学者
EUVレジスト材料の評価・開発に関わる方
プロセスエンジニア
EUVプロセスの最適化に関わる方
新規研究者
これからEUV材料研究を始める研究者・技術者
セミナープログラム
1. EUVLの概要
- EUVLの概要と技術背景
- EUVL用レジストの特性
- 従来リソグラフィーとの比較
- 20nm微細加工の実現
2. アウトガス評価技術
- EUVLレジストのアウトガス評価方法
- EUVLレジストのアウトガス評価装置
- アウトガス測定の重要性
- 評価結果の解釈と対策
3. EUVレジストの評価技術
- EUV透過率測定
- ナノパーティクル添加レジストの高感度化
- 屈折率nk測定
- EUV2光束干渉露光
4. EUVメタルレジストの評価技術
- メタルレジストの概要
- EUVメタルレジストのアウトガス分析
- EUVメタルレジストの問題点
- 改善策と今後の展開
5. EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
- 感度の定義と測定方法
- EUVレジストの感度特性
- 電子線レジストとの比較
- 感度最適化の考え方
6. 「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」聴講報告
- 国際学会での最新技術動向
- EUVに関する最新発表内容
- 業界の今後の方向性
- 今後のEUVリソグラフィーの展望
質疑応答
講師との直接対話で疑問解消
受講料金と割引特典
半導体産業応援キャンペーン対象セミナー
3名以上のお申込みでさらにお得！
受講人数ごとのお申込み例
1名の場合
37,840円（税込）
テレワーク応援キャンペーン/E-mail案内登録
2名の場合
49,500円（税込）
2名同時申込で1名分無料
1名あたり24,750円（税込）
3名の場合
66,000円（税込）
半導体産業応援キャンペーン
1名あたり22,000円（税込）
4名の場合
88,000円（税込）
半導体産業応援キャンペーン
1名あたり22,000円（税込）
セミナー形式とサービス
ライブ配信
Zoomを使用したリアルタイムセミナー。安定した接続環境で講義をご提供します。
製本テキスト配布
セミナー資料は開催日の4～5日前にお申込み時のご住所へ発送いたします。
事前資料送付
開催前日着までを目安に製本テキストを発送いたします。
接続サポート
申込み前に必ずZoomの受講方法・接続確認をご確認ください。
開催情報
- 形式：Zoomによるライブ配信のみ
- 日時：2026年4月17日（金）13:00～16:00
- 配信ツール：Zoom
- 配布資料：製本テキスト（開催前日着までを目安に発送）
- 資料発送：開催日の4～5日前にお申込み時のご住所へ
- 録音・撮影：講義の録音・録画・撮影はご遠慮ください
- 注意：間近でのお申込みの場合、資料到着が開催日に間に合わないことがあります
このセミナーで得られるもの
EUVレジストの基礎
EUVレジストの概要と評価方法に関する基礎知識を習得
EUVリソグラフィーの基礎
EUVリソグラフィーの原理と技術体系を理解
プロセス最適化
EUVフォトプロセスの最適化方法を習得
評価技術
EUVフォトプロセスの評価方法を習得
最新技術動向
国際学会での最新EUV技術情報を習得
実践知識
40年以上の実績を有する第一人者からの実践的なノウハウ
お問い合わせ
株式会社イーコンプレス 丁田
所在地：
〒630-0244 奈良県生駒市東松ヶ丘1-2 奥田第一ビル102
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上記の連絡先までお気軽にお問い合わせください
