セミナー概要

半導体洗浄の基礎現象・要点から困った時の対策まで体系的に解説するセミナーです。半導体にとっての清浄面の意味と価値、薬液の働き方を改めて考え、水の流れを動画で観察することで、洗浄プロセスの本質を直感的に理解できます。

枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れの可視化実験動画を見て感覚をつかみ、数値シミュレーション結果で理論を深めます。超音波の効果についても流れと気泡の動きを動画で理解。洗浄機内の流れが結果を左右すること、流れを変えて使う工夫、微細パターン洗浄の特徴を学び、トラブル時の視点と対策を習得できます。

対象者・得られる知識

半導体製造プロセスに携わる技術者、洗浄装置の設計・開発に携わる技術者、半導体洗浄の基礎知識を習得したい方を対象としています。洗浄を構成する要素と要点、目的に合わせた清浄の定義、キレイに仕上げるための表面と流れの工夫、洗浄条件設計方法、流れ・気泡の使い方と作り方を習得できます。

プログラム

1. 洗う理由：汚れの種類と由来
2. 半導体洗浄の4要素：温度、時間、化学、力学
3. 半導体の洗浄に特有のこと
4. 先端技術情報（半導体洗浄を取扱う国際学会・国内学会）
5. 半導体洗浄の基礎現象 — 表面の現象とプロセス、流れ・熱・拡散・反応、可視化観察例
6. 洗浄機内の流れと反応 — 枚葉式洗浄機の水の流れと化学反応、バッチ式洗浄機の最適化事例
7. 超音波の働き — 水と気泡の動き、超音波出力と水の動き、超音波洗浄槽の工夫と最適化
8. 洗浄の評価方法（実験・計算・観察）
9. 狭い空間の洗浄 — 液の侵入と濡れ、反応速度、微細パターンの洗浄面積
10. まとめ：困った時の視点と対策（流れと境界層）— 洗えない時・洗えるが残る時の対応

講師

羽深 等 氏（反応装置工学ラボ・代表、横浜国立大学 名誉教授）

信越化学工業にて半導体製造プロセスに従事した後、横浜国立大学大学院工学研究院教授として半導体結晶製造プロセスの化学工学、シリコンウエハ湿式洗浄装置の解析・設計、薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチングのプロセス開発等を専門に研究。2022年より反応装置工学ラボ代表。

開催情報

形態

オンデマンド配信

動画時間

4時間22分

視聴期間

申込日から10営業日後まで（何度でも視聴可）

受講料

55,000円（税込）
2名同時申込で1名無料

主催

サイエンス＆テクノロジー

配布資料

PDFテキスト（印刷可・編集不可）