6月052026

セミナー医薬品

半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策

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半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策

～汚染のメカニズムと分析・解析・モニタリング方法、目的別の洗浄手法～
～汚染制御のための洗浄乾燥技術、工場設計、次世代洗浄技術について解説～

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受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ

★見逃し配信のみの視聴も可能です！（視聴期間：6/8～6/15）

Point

半導体の微細化が進む今、洗浄技術はより重要な鍵に。

本セミナーでは、半導体デバイスにおける金属・分子汚染の影響とそのメカニズム、分析解析手法とモニタリングについて解説し、従来の洗浄技術から最新の洗浄手法、洗浄以外の汚染、そして次世代の汚染制御技術まで幅広く解説します。RCA洗浄や薬液系/純水系洗浄のメカニズム、最新の乾燥技術、工場設計やウェーハ保管・移送方法などについても詳しくご紹介します。ぜひご参加ください。

▼このような方におすすめです▼

・半導体製造に関わる方　　・洗浄・クリーン化の基礎から応用まで学びたい方

キーワード：洗浄、クリーン化、モニタリング技術、歩留改善、工場設計

📅 開催概要

受講形式	受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
配信形式	ライブ配信
開催日時	【ライブ配信(見逃し配信付)】 2026年6月5日（金） 13:00～16:30
受講料（税込）	49,500円定価：本体45,000円＋税4,500円
特典	ライブ配信受講者特典のご案内ライブ配信受講者には、特典（無料）として「見逃し配信」の閲覧権が付与されます。オンライン講習特有の回線トラブルや聞き逃し、振り返り学習にぜひ活用ください。 (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます）見逃し配信視聴期間：［6/8～6/15中］を予定 ※見逃し配信は原則として編集は行いません ※ライブ配信を欠席しアーカイブ視聴のみの受講も可能です。
配布資料	PDFテキスト(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
対象	研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
備考	※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

📚 セミナー趣旨

半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄以外の汚染制御技術、モニタリング技術、wafer表面分析技術及び最適な工場設計について教授します。

📄 セミナー講演内容（プログラム）