１．シリカとは

1.1 結晶性シリカ

1.2 非晶質シリカ

1.3 合成シリカ

２．合成シリカ微粒子

2.1 微粒子の定義

2.2 一次粒子径とその制御

・一次粒子の形成

・ゲル化

2.3 凝集と分散

・フェームドシリカの製法

・乾式法と湿式法

・ゲル化の抑制と制御

・濃度依存性

・コロイダルシリカの安定化

2.4 安全性

３．合成シリカ微粒子の用途と市場動向・主要メーカー

3.1 コロイダルシリカ

・イオン交換樹脂法、ストーバー法による調製

3.2 フュームドシリカ

・火炎加水分解法による調製

3.2.1 フュームドシリカの主な用途

・液体製品の増粘、チキソトロピー性の付与

・ゴムなどエラストマーの補強充填剤

・粉体製品の固結防止、流動性改善剤

・超微粒子、高純度、断熱性、吸着の利用

3.3 シリカゲル

・製法とゲル化

・ゲル化の制御

・粒子形状と粒子サイズ、物性

・シラノール基との吸着機構（化学吸着・物理吸着）

3.4 沈降性シリカ

・製造方法、物性、構造

3.5 メソポーラスシリカ

・細孔構造とその特徴、調製方法

3.6 多孔質ガラス

・分相法、ゾルゲル法による調製方法

・触媒担体

3.7 中空シリカ

・製造方法、物性、構造

・電子材料（半導体封止材・誘電体材料・反射防止膜）への展開

４. 合成シリカの表面改質

4.1 表面改質とは

・熱処理

・シリカゲルの耐熱性

・IRスペクトル特性

・表面コーティング

・CVD法

・半導体の原理と層間絶縁膜

4.2 シラノール基

・吸着反応機構

・IRスペクトル、NMRスペクトル特性

・定量方法（赤外分光法（FTIR）、熱重量分析（TGA）、滴定法、核磁気共鳴（NMR）分光法、表面化学吸着法）

4.2 凝集・分散制御

・疎水化処

・静電分散

・コロイダルシリカの調製ポイント

・DVLO理論、ゼータ電位

・高分子分散

4.3 構造制御

・メソポーラスシリカ

・エマルション法による中空シリカの調製

・外殻部の形成

・シリカエマルション構造の強化

・中空化

・細孔制御

・シリカゾルとの組み合わせ

4.4 表面処理剤

・シリカ、シリコン、シリコーン、シランカップリング剤

4.5 表面処理剤の選定方法

・シリカ表面処理おけるキーポイント

・シリカ×シリコーンオイル

・シリカ×シランカップリング剤（アミノ系・エポキシ系・ビニル系）

4.6 表面処理剤使用量の算出方法

4.7 評価方法

4.8 応用事例

・クロマトグラフィー

・塗料

・タイヤ

・触媒

５．評価方法

5.1 外観

5.2 粒子径

5.3 粒子強度

5.4 比表面積

5.5 細孔容積

5.6 細孔径

5.7 不純物（金属）

６．最新トピックスと次世代材料

・医薬品　等

７．まとめ