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セミナー 医薬品

ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向

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セミナー番号:A261211

ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向

~生体データを連続的・高精度に違和感なくセンシングするために~
~皮膚/生体貼付型・衣服型など未来のウェアラブルセンサに向けて~
📅 開催日
12/11 (金)
2026 / 13:00〜16:30
💻 受講形式
ライブ配信(Zoom)
💰 受講料(税込)
49,500円

📝本講演の概要

ナノインプリントリソグラフィ(Nanoimprint Lithography: NIL)は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。NILは、1995年にプリンストン大学のChou先生が提唱してから30年以上たち、製品化も進んでいる。

本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、新製品等のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール(RTR)NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品等のヒントが得られると考えている。さらに、最新のメタレンズやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。

📋プログラム

はじめに

11 ナノインプリントリソグラフィの歴史

12 ナノインプリントリソグラフィの現状

ナノインプリントの基礎

21 ナノインプリントの要素技術(金型、樹脂、装置等)

22 ナノインプリントの各種方式

23 ナノインプリントの位置づけ

ナノインプリントの応用技術

31 ナノトランスファープロセス

32 金属パターン転写

ロールトゥロール (RTR)

ナノインプリント

41 RTR NILの基礎

42 反射防止構造(モスアイ構造)

43 モスアイ構造の作製方法

44 モスアイ構造の転写方法

45 モスアイ構造の応用例

将来展望

51 メタレンズ

52 AR/MR グラス

6

.まとめ

□ 質疑応答 □

👤講師

👤
東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科・教授
谷口 淳 氏

【その他 活動等】
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長

🗓開催概要

開催日時
受講形式 ライブ配信(Zoom)
受講料 49,500円(税込)
本体45,000円+税4,500円
配布資料 製本テキスト(会場にて直接お渡しします)
備考 ※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

🎁各種割引特典

2名同時申込
49,500円
1名分無料・S&T会員登録必須

お申し込みはこちら

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株式会社イーコンプレス

〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅3-4-10 アルティメイト名駅1st 2階

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