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半導体製造プロセスにおける フィルタ技術の基礎と選定・活用

ライブ配信半導体 フィルタ半導体製造 汚染管理セミナー
セミナー番号:B261022

半導体製造プロセスにおける フィルタ技術の基礎と選定・活用

~生体データを連続的・高精度に違和感なくセンシングするために~
~皮膚/生体貼付型・衣服型など未来のウェアラブルセンサに向けて~
📅 開催日
10/22 (木)
2026 / 13:00〜16:30
💻 受講形式
Zoomによるライブ配信
💰 受講料(税込)
49,500円

📝本講演の概要

半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、製造プロセスにおける汚染管理の重要性はますます高まっています。フィルタは、パーティクル、金属、有機物などの不純物を除去し、製品品質や歩留まり向上に重要な役割を果たしています。

本講演では、フィルタの基礎原理から用途別の活用方法、不純物除去メカニズム、選定・評価の考え方までを体系的に解説します。

こんな方におすすめ

  • 半導体製造に携わる技術者、研究開発者、品質管理担当者を対象とします。半導体製造工程で使用されるフィルタの基礎知識から選定
  • 評価
  • 活用方法までを学びたい方におすすめの内容です。

📋プログラム

半導体薬液中の不純物

11 汚染物質の種類

12 汚染物質の由来

13 汚染物質の及ぼす影響

フィルタの基礎

21 ろ過膜の定義と種類

22 フィルタの種類と構成

23 粒子捕捉メカニズム

24 ろ過膜の特性と評価方法

25 膜材質と濡れ性

26 親水化処理

27 目詰まりとフィルタ寿命

半導体プロセスにおけるフィルタ用途と選定のポイント

31 フォトリソグラフィ工程におけるフィルタ用途

32 高純度薬液におけるフィルタ用途

33 フィルタに求められる性能

34 プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント

35 フィルタ適用事例

36 先端半導体におけるフィルタ技術動向

金属除去フィルタ

41 金属除去フィルタとは?

42 金属除去メカニズム

43 金属除去フィルタの性能評価方法

44 有機溶剤中の金属除去について

□質疑応答□

👤講師

👤
日本インテグリス合同会社 Lead Application Engineer
三浦 こずえ 氏

  • 専門:応用化学

🗓開催概要

開催日時
受講形式 Zoomによるライブ配信
受講料 49,500円(税込)
本体45,000円+税4,500円
配布資料 PDFテキスト(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
備考 ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

お申し込みはこちら

下記ボタンよりお申し込みページ(ショップサイト)へ移動します。

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株式会社イーコンプレス

〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅3-4-10 アルティメイト名駅1st 2階

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